Revista de ciencia y tecnología de membranas

Abstracto

Efecto de las capas de suciedad en el rechazo de arsenito [As (III)] por membranas de nanofiltración

Mustapha Chabane y Benamar Dahmani

En esta investigación se investigó el efecto del ensuciamiento de la membrana sobre la eficiencia de rechazo de especies de arsenito por membranas de nanofiltración. Dos membranas de nanofiltración (DESAL DL y N30F) fueron ensuciadas por varios compuestos, incluidos ácido húmico, alginato de sodio, sílice coloidal y CaSO4, y evaluaremos el efecto de la disminución del flujo y la eficiencia de rechazo de las membranas de As (III) en un rango de pH entre 6 y 11. El efecto del modo de interacción entre las capas de ensuciamiento, membrana y As (III), está relacionado con la diferencia de las características de las membranas, como el MWCO, la rugosidad, el carácter hidrofóbico/hidrofílico y la variación de la carga superficial a diferentes valores de pH. El monitoreo del rechazo de As (III) en la solución de alimentación y permeado presentará la disminución en el flujo de permeado y un aumento del rechazo de arsénico dependiendo de cada tipo de ensuciador. Se encontró que las propiedades de los ensuciadores eran un factor importante para la determinación del transporte de arsenito a través de las capas de ensuciamiento. Los resultados muestran los altos valores de rechazo de iones arsenito para la membrana DESAL DL en comparación con la membrana N30F. Para un rango de pH situado entre 6 a 11, la aplicación de ácido húmico como sustancia ensuciante proporciona una alta eficiencia de eliminación de As (III) en comparación con otros compuestos, con valores muy altos de rechazo a pH=11 con un 90% para la membrana DESAL DL y un 37% para la membrana N30F. Se ha encontrado que el mecanismo de exclusión por tamaño de arsenito As (III) es predominante para la membrana DESAL DL.